校外 6000元/炉，3000元/配炉 校内 3000元/炉，1500元/配炉
1.极限真空：优于5x10-4Pa（空载，烘烤除气条件下） 2.抽速：从大气开始抽气30分钟可达3.0 x10-3帕 3.真空室烘烤 4.进气系统采用质量流量控制器控制进气 5.真空腔尺寸：内径ф1000毫米x长度1000毫米
本设备主要通过化学气相沉积对钻头、铣刀、光盘模具及其辅助模具、芯轴、刀片等镀膜
目前PECVD的应用最为广泛，其技术发展及研究也最为成熟，其广泛应用于广泛用于提纯物质、制备各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。
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