700元/h

分辨率： 0.7 nm @15 kV 1.0 nm @1kV 放大倍数：8-2,000,000× 加速电压：0.02-30 kV（无需减速模式实现） 探针电流： 3 pA-40 nA 样品室尺寸： 360 mm（φ），270 mm（h） 样品台：5轴优中心全自动 X=130 mm, Y=130 mm, Z=50 mm, T= -4°/+70°, R=360°连续

Zeiss Gemini 460 场发射扫描电镜可对金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等各类型材料样品表面微观结构进行超高分辨率成像观察，获取样品表面微观结构形貌信息、成分衬度信息，可以在低电压条件下无需镀膜直接高分辨观察样品。较多的信号探测器及外接接口，易于实现高分辨额成像的同时，结合能谱及EBSD探头，对材料的成分和微观取向结构进行分析，也可搭载原位分析系统，研究材料的微观力学、形貌或微观结构的演化。安装了能谱仪&EBSD一体化系统和原位纳米力学系统，可实现对材料的微观区域的元素分布、取向织构、力学性能进行分析。

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